ASUMI技研株式會社準(zhǔn)分子照射裝置

準(zhǔn)分子照射裝置

采用以172nm紫外線為主波長的準(zhǔn)分子照射裝置進(jìn)行表面改性。因為采用了RF (高頻)放電燈，閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。 另外采用平面型燈，大面積實現(xiàn)了均勻的照射

準(zhǔn)分子照射裝置(主波長: 172nm )

Ø 因為采用了RF放電燈，閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。 采用平面型燈，大面積實現(xiàn)均勻的照射

Ø 準(zhǔn)分子燈利用了封入稀有氣體的燈內(nèi)產(chǎn)生的放電等離子體(電介質(zhì)阻擋放電)產(chǎn)生的光(準(zhǔn)分子光)。

Ø 主要波長有126nm(Ar2)、146nm(Kr2)、172nm(Xe2)、222nm(KrCl )、308nm(XeCl )。

Ø 本公司采用利用了Xe2的以172nm為主波長的燈單元，提供表面改性、親水化處理(潤濕性方向上)用的裝置

Ø 與將放電直接照射到工件的電暈放電、等離子體方式不同，準(zhǔn)分子照射只是真空紫外線的照射，對工件幾乎沒有損傷。

Ø 與電極的濺射產(chǎn)生粉塵的電暈放電、等離子體方式不同，可進(jìn)行清潔處理。

Ø 利用光的準(zhǔn)分子照射沒有處理不均。

Ø 可瞬時點亮、熄滅

Ø 因為采用了RF (高頻)放電燈，閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。

Ø 采用平面型燈，大面積實現(xiàn)均勻的照射

ASUMI技研株式會社準(zhǔn)分子照射裝置

TAKIGEN滝源,NANSIN南星,TOSHIN CASTER東信,SISIKU獅子吼,TOSEI SHARYO渡世,,SKK斯科克,ORIIMEC歐立美克,TOKAI CASTER東海,INOAC意諾埃科,TOUHOKU CASTER東北,O.H.INDUSTRIAL OH工業(yè),PARTS SEIKO發(fā)馳精工,YODONO世殿,TACO株式會社,TERALテラル株式會社,NOPGROUP日本油泵,DAIDOPMP大同機械制造,GEAR-ESUギヤーエス工業(yè),KYORITSUKIKO共立機巧,TACMINA株式會社タクミナ,HAYASHIPUMP林化工機制作所,WCC株式會社ワールドケミカル,SEIKOWセイコー化工機,NAKAKINPUMP株式會社ナカキン,SPURT株式會社スプルト,KAWAPUMP川機械工業(yè),NIKKISO日機裝エイコー

MARUYAMA丸山制作所,TEIKOKUDENKI帝國電機制作所,FUKKO伏虎金屬工業(yè),FURUKAWA古河產(chǎn)機システムズ,HESHIN兵神裝備,GRGRACOグラコ株式會社,DYNAFLOダイナフロー株式會社,SANSO三相電機株式會社,NISHIGAKI西坦泵制造株式會社,IWAYADENKI巖谷電機制作所,NIKUNI株式會社ニクニ,TOYOPUMP東洋電機工業(yè)所,EIMPUMPアイム電機工業(yè),ELEPONエレポン株式會社,SAKURA-P櫻川泵制作所,TSURUMIPUMP鶴見制作所,KAWAMOTO川本制作所,TERADAPUMP寺田泵制作所,TORISHIMA酉島制作所,MITSUVAC三津海制作所,株式會社E.M.P，KURASHIKIKAKO倉敷化工，MIKUNI三國重工業(yè)，UNOZAWA宇野澤組鐵工所,TOYOPUMPS東洋電機,株式會社PROTEC