ASUMI技研準(zhǔn)分子照射裝置定制事例 準(zhǔn)分子照射裝置定制事例 用于R&D用掃描式準(zhǔn)分子照射裝置（ 400mm ）照射寬度400mm的準(zhǔn)分子照射單元的掃描式照射裝置。 大工件尺寸為400×800mm。 型號ASM400 E
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ASUMI技研株式會社掃描準(zhǔn)分子發(fā)射器 掃描準(zhǔn)分子發(fā)射器 將以172nm為主波長的準(zhǔn)分子照射單元和掃描用載物臺、臭氧分解裝置一體化，僅用100V的電源就能簡單且安全地進(jìn)行準(zhǔn)分子表面改性實驗的裝置。 【特征】掃描用 可通過掃描用載物臺進(jìn)行比以往更大面積的處理。
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ASUMI技研株式會社準(zhǔn)分子照射裝置 準(zhǔn)分子照射裝置 采用以172nm紫外線為主波長的準(zhǔn)分子照射裝置進(jìn)行表面改性。因為采用了RF （高頻）放電燈，閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。 另外采用平面型燈，大面積實現(xiàn)了均勻的照射 準(zhǔn)分子照射裝置（主波長: 172nm ）
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ASUMI技研UV臭氧清洗表面改性裝置 UV臭氧清洗表面改性裝置 低壓水銀燈發(fā)出的184.9nm和253.7nm的紫外線，去除有機物和改善表面。 提供一套從較適合涂層前的潤濕性方向和粘附性方向的R&D用小型裝置到生產(chǎn)用裝置、其他評價裝置和臭氧分解裝置等附屬品 UV臭氧清洗重整裝置ASM2003N
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ASUMI技研株式會社涂復(fù)裝置 浸涂機器 涂復(fù)裝置 浸涂機器 ?研究用小型裝置 ?定制設(shè)備 ?半定量生產(chǎn)裝置 ?連續(xù)式量產(chǎn)裝置 ?預(yù)處理裝置 ?后處理裝置
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